Fond de Ten Skin Lifting 110

Descriere

Utilizare
Aplică uniform și estompează cu ajutorul unui burete de machiaj sau a unei pensule.

Beneficii / Ingrediente
Este un fond de ten hidratant care constă 95% din ingrediente naturale. Testat dermatologic.

Atenționări
A se evita contactul direct cu ochii. A se depozita ferit de lumină directă și surse de căldură. A se închide capacul în mod corespunzător după utilizare.

INCI
AQUA (WATER), CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, POLYGLYCERYL-3 POLYRICINOLEATE, ETHYLHEXYL POLYHYDROXYSTEARATE, COCONUT ALKANES, SQUALANE, GLYCERIN, ZINC OXIDE, TITANIUM DIOXIDE, POLYGLYCERYL-3 DIISOSTEARATE, PENTYLENE GLYCOL, MAGNESIUM SULFATE, SODIUM CHLORIDE, STEARALKONIUM HECTORITE, KAOLIN, XANTHAN GUM, MICROCRYSTALLINE CELLULOSE, ASCORBYL TETRAISOPALMITATE, BUTYLENE GLYCOL, SILICA, PROPYLENE CARBONATE, PULLULAN, JOJOBA ESTERS, SACCHARIDE ISOMERATE, POLYHYDROXYSTEARIC ACID, 1,2-HEXANEDIOL, HYDROGENATED LECITHIN, PARFUM (FRAGRANCE), SORBITOL, NIACINAMIDE, PRUNUS ARMENIACA (APRICOT) KERNEL OIL, BIOSACCHARIDE GUM-1, CYDONIA OBLONGA LEAF EXTRACT, TOCOPHEROL, CAPRYLHYDROXAMIC ACID, SODIUM LEVULINATE, GLYCERYL CAPRYLATE, SODIUM LAUROYL GLUTAMATE, ACACIA SENEGAL GUM, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED OIL, CITRIC ACID, SODIUM ANISATE, COLLAGEN AMINO ACIDS, LYSINE, MAGNESIUM CHLORIDE, SODIUM CITRATE, TREHALOSE, POTASSIUM SORBATE, LEUCONOSTOC/RADISH ROOT FERMENT FILTRATE, SODIUM ACETYLATED HYALURONATE, SODIUM HYALURONATE, SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER, HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, LINALOOL, ALPHA-ISOMETHYL IONONE, GERANIOL, CITRONELLOL. +/-(MAY CONTAIN): CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE), CI 77492 (IRON OXIDES), CI 77491 (IRON OXIDES), CI 77499 (IRON OXIDES). [31000245.00]